電離層F3層是一種比較特殊的電離層垂直分層分層結構。地質地球所地球與行星物理院重點實驗室趙必強研究員利用總計8年(2006年4月到2014年8月)的COSMIC/FORMOSAT-3衛(wèi)星觀測的電離層密度剖面數(shù)據(jù)研究了低緯-赤道區(qū)底部和頂部電離層的F3層(F2層的附加分層)。在總計127萬觀測剖面中,我們在3.7萬個頂部F3層事例和2.5萬個底部F3層事例。底部F3層的統(tǒng)計特征與Zhao et al. (2011)的結果相同,但是頂部F3層的高發(fā)生時段隨高度有3-4小時的變化。F3層發(fā)生率的緯度分布也表現(xiàn)出高度依賴,即隨高度升高趨向于單峰結構。相對于底部F3,頂部F3層的季節(jié)變化弱很多,特別在較高的高度上。基于以上的數(shù)據(jù),我們使用經驗正交函數(shù)法(EOF)開發(fā)了一個F3層發(fā)生率的經驗模型,該模型能夠很好的再現(xiàn)F3層發(fā)生率的變化特征。同時為了與地面觀測相一致,我們還在這個經驗模型中引入了一個修正系數(shù)。這是低緯F3層的全球發(fā)生率的首個精確描述,將來的工作將著重考慮F3的高度變化特征。
工作發(fā)表在:Zhao, B., J. Zhu, B. Xiong, X. Yue, M. Zhang, M. Wang, and W. Wan(2014), An empirical model of the occurrence of an additional layer in the ionosphere from the occultation technique: Preliminary results, J. Geophys. Res. Space Physics, 119, doi:10.1002/2014JA020220.